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聚二甲基矽氧烷FTIR光譜圖
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此為聚二甲基矽氧烷FTIR光譜圖(無法貼上圖片抱歉)在2960 cm-1與2905 cm-1的peak為連接在矽上的甲基(-CH3)上碳氫鍵(C-H)產生不對稱(asymmetric)與對稱(symmetric)之伸縮振動(stretching vibration)而引起；而在1445 cm-1與1412 cm-1和1258 cm-1的peak則為(-CH3)所產生不對稱與對稱之變形振動(deformation vibration or bending vibration)所引起。在1000 cm-1與1070 cm-1之間有一較為寬厚之吸收峰，主要peak為1010 cm-1與1061... 顯示更多 此為聚二甲基矽氧烷FTIR光譜圖(無法貼上圖片抱歉)在2960 cm-1與2905 cm-1的peak為連接在矽上的甲基(-CH3)上碳氫鍵(C-H)產生不對稱(asymmetric)與對稱(symmetric)之伸縮振動(stretching vibration)而引起；而在1445 cm-1與1412 cm-1和1258 cm-1的peak則為(-CH3)所產生不對稱與對稱之變形振動(deformation vibration or bending vibration)所引起。 在1000 cm-1與1070 cm-1之間有一較為寬厚之吸收峰，主要peak為1010 cm-1與 1061 cm-1為矽氧矽(Si-O-Si)主鏈產生不對稱伸縮振動而引起。而在865 cm-1與 660 cm-1之間的吸收峰則來自Si-CH3結構之不同的振動模式，其中較為明顯的是 843 cm-1與787 cm-1 ，分別為Si-CH3與Si-CH3產生不對稱的搖擺振動 (rocking vibration)所引起。 FTIR光譜圖在烘烤條件達到150 ℃後2905 cm-1與1445 cm-1 peak消失且2960 cm-1、1412 cm-1、1258 cm-1、1061 cm-1、1010 cm-1、843 cm-1與787 cm-1 peak改變 想請問有化學.材料背景的專家，為何130度烘烤以下和150度烘烤以上FTIR光譜圖有差異?是否是產生什麼結構變化?就算只了解一點也可多多指教，感謝(贈送20點) 更新: 那可以請問''溫柔''一下這些peak的變化，有什麼您知道能解釋出來的嗎?
最佳解答:
烘烤溫度和烘烤時間這二個參數，會使其分子結構發生電漿鍵結，結果造成分子量和黏度改變，轉變成另一種形態的聚二甲基矽氧烷。因此FTIR顯示的特性吸收帶也會隨之改變。 2014-02-28 12:01:41 補充： 您說peak的變化,這個並不是peak 產生變化,而是一種聚合物轉變成另外一種聚合物.每一種聚合物均有其特性吸收peak. 聚合物不一樣時,其特性吸收peak也不一樣,不能視為peak 產生變化..
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